最新章节:第2045章 藏杀
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EUV光源的技术基本只掌握在花旗国Cymer公司手中,星光科技公司作为一家华夏公司,基本上不可能与対方达成技术合作,因为花旗国政府,就不会同意。EUV光刻机——顶级科学与顶级制造的结合。EUV波长只有13.5nm,穿透物体时散射吸收强度较大,这使得光刻机的光源功率要求极高,此外机器内部需是真空环境,避免空气对EUV的吸收,透镜和反射镜系统也极致精密,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也需要更先进技术去提升。一台EUV光刻机重达180吨,超过10万个零件,需要40个集装箱运输,安装调试都要超过一年时间。总之,EUV光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限。所以EUV不仅是顶级科学的研究,也是顶级精密制造的学问。二零一零年首发EUV光刻机,目前成为全球唯一一家EUV光刻机供应商。二零一零年,阿斯慢首次发售概念性的EUV光刻系统NXW:3100,从而开启光刻系统的新时代。二零一三年,阿斯慢发售第二代EUV系统NXE:3300B,但是精度与效率不具备10纳米以下制程的生产效益。今年又推出了第三代EUV系统NXE:3350,但仍然只是试产的性质。历史上,阿斯慢公司要到明年,也就是二零一六年,第一批面向制造的EUV系统NXE:3400B,才会开始批量发售,NXE:3400B的光学与机电系统的技术有所突破,极紫外光源的波长缩短至13nm,每小时处理晶圆125片,或每天可1500片。连续4周的平均生产良率可达80%,兼具高生产率与高精度。
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